Hafnium tetraklorida | Serbuk HfCl4 | CAS 13499-05-3 | harga kilang

Penerangan ringkas:

Hafnium tetraklorida mempunyai aplikasi penting sebagai prekursor hafnium oksida, pemangkin untuk sintesis organik, aplikasi nuklear, dan pemendapan filem nipis, menonjolkan kepelbagaian dan kepentingannya dalam pelbagai bidang teknologi.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Hantar e-mel kepada kami

Butiran Produk

Tag Produk

Penerangan Produk

Pengenalan ringkas

Nama Produk: Hafnium tetraklorida
Nombor CAS: 13499-05-3
Formula Sebatian: HfCl4
Berat Molekul: 320.3
Rupa: Serbuk putih

Spesifikasi

item	Spesifikasi
Penampilan	Serbuk Putih
HfCl4+ZrCl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Permohonan

Prekursor Hafnium Dioksida: Hafnium tetraklorida digunakan terutamanya sebagai prekursor untuk menghasilkan hafnium dioksida (HfO2), bahan dengan sifat dielektrik yang sangat baik. HfO2 digunakan secara meluas dalam aplikasi dielektrik tinggi k untuk transistor dan kapasitor dalam industri semikonduktor. HfCl4 adalah penting dalam pembuatan peranti elektronik canggih kerana keupayaannya untuk membentuk filem nipis hafnium dioksida.
Pemangkin sintesis organik: Hafnium tetraklorida boleh digunakan sebagai pemangkin untuk pelbagai tindak balas sintesis organik, terutamanya pempolimeran olefin. Sifat asid Lewisnya membantu membentuk perantaraan aktif, dengan itu meningkatkan kecekapan tindak balas kimia. Aplikasi ini berharga dalam pengeluaran polimer dan sebatian organik lain dalam industri kimia.
Aplikasi Nuklear: Oleh kerana keratan rentas penyerapan neutron yang tinggi, hafnium tetraklorida digunakan secara meluas dalam aplikasi nuklear, terutamanya dalam rod kawalan reaktor nuklear. Hafnium boleh menyerap neutron dengan berkesan, jadi ia adalah bahan yang sesuai untuk mengawal proses pembelahan, yang membantu meningkatkan keselamatan dan kecekapan penjanaan kuasa nuklear.
Pemendapan Filem Nipis: Hafnium tetraklorida digunakan dalam proses pemendapan wap kimia (CVD) untuk membentuk filem nipis bahan berasaskan hafnium. Filem ini penting dalam pelbagai aplikasi, termasuk mikroelektronik, optik, dan salutan pelindung. Keupayaan untuk mendepositkan filem seragam dan berkualiti tinggi menjadikan HfCl4 berharga dalam proses pembuatan termaju.