Hafnium tetrachloride | Serbuk HFCL4 | CAS 13499-05-3 | Harga kilang

Penerangan ringkas:

Hafnium tetrachloride mempunyai aplikasi penting sebagai pendahulu hafnium oksida, pemangkin untuk sintesis organik, aplikasi nuklear, dan pemendapan filem nipis, menonjolkan kepelbagaian dan kepentingannya dalam pelbagai bidang teknologi.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Hantarkan e -mel kepada kami

Perincian produk

Tag produk

Penerangan Produk

Pengenalan ringkas

Nama Produk: Hafnium Tetrachloride
Cas No.: 13499-05-3
Formula Kompaun: HFCL4
Berat molekul: 320.3
Penampilan: Serbuk Putih

Spesifikasi

Item	Spesifikasi
Penampilan	Serbuk putih
HFCL4+ZRCL4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Permohonan

Hafnium dioksida prekursor: Hafnium tetrachloride digunakan terutamanya sebagai pendahulu untuk menghasilkan hafnium dioksida (HFO2), bahan dengan sifat dielektrik yang sangat baik. HFO2 digunakan secara meluas dalam aplikasi dielektrik tinggi untuk transistor dan kapasitor dalam industri semikonduktor. HFCL4 adalah penting dalam pembuatan peranti elektronik maju kerana keupayaannya membentuk filem nipis Hafnium dioksida.
Pemangkin sintesis organik: Hafnium tetrachloride boleh digunakan sebagai pemangkin untuk pelbagai tindak balas sintesis organik, terutamanya pempolimeran olefin. Ciri -ciri asid Lewis membantu membentuk perantaraan aktif, dengan itu meningkatkan kecekapan tindak balas kimia. Aplikasi ini sangat berharga dalam pengeluaran polimer dan sebatian organik lain dalam industri kimia.
Permohonan nuklear: Oleh kerana seksyen penyerapan neutron yang tinggi, hafnium tetrachloride digunakan secara meluas dalam aplikasi nuklear, terutamanya dalam rod kawalan reaktor nuklear. Hafnium secara berkesan dapat menyerap neutron, jadi ia adalah bahan yang sesuai untuk mengawal proses pembelahan, yang membantu meningkatkan keselamatan dan kecekapan penjanaan kuasa nuklear.
Pemendapan filem nipis: Hafnium tetrachloride digunakan dalam proses pemendapan wap kimia (CVD) untuk membentuk filem nipis bahan berasaskan hafnium. Filem -filem ini penting dalam pelbagai aplikasi, termasuk mikroelektronik, optik, dan salutan perlindungan. Keupayaan untuk mendepositkan seragam, filem berkualiti tinggi menjadikan HFCL4 berharga dalam proses pembuatan maju.